DIC显示展展商精选丨晶洲装备，高端湿制程装备工艺推动新型显示供应链建设

公司简介

苏州晶洲装备科技有限公司（展位号：特5F18）2011年成立于苏州常熟高新技术产业开发区辛庄工业园，业务范围集研发、设计、制造、销售及售后为一体，专注于平板显示、光伏、半导体领域的高精密清洗、显影、湿法刻蚀、光阻剥离等高端湿制程设备的生产及研发，并同步延伸相配套的环保及智能数据，如废液在线回收系统、机器人运用等关键自动化系统，是一家具备高新技术企业资质的高端湿制程装备及工艺技术综合解决方案提供商。

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苏州晶洲装备科技有限公司以国际视野、国产装备为企业口号，在平板显示领域，从清洗、显影、刻蚀，到剥离、蒸镀前清洗，提供了切实有效的解决方案，以G8.5湿法刻蚀设备为代表，研发出清洗机、显影机、湿法刻蚀机、光阻剥离机、掩模版清洗机等一系列湿制程主工艺设备。

清洗机cleaner

成膜前清洗，直径大于1μm的颗粒物不能超过100颗，以确保制造良率，单张基板需清洗30次以上，占面板制程总工序约30%。

清洗机

适用工艺：INC/UPC，DKC，DIC，BPC，ODF……

适用基板尺寸：All Size

适用基板厚度：≥0.3mm

清洗方式：UV/AP，DB/RB Brush，HP，BJ/SJ，HPMJ，MS，IR……

设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made

工艺指标：Contact Angle；Particle Removal Rate；ESD Control；No Mura，No Roller Mark，No Contamination And No Scratch；Low Running Cost

显影机Developer

将曝光后的光阻溶解于显影液后用去离子水冲洗干净，以定义膜层图形，单张基板需显影5次以上，占面板制程总工序约10%。

显影机

适用工艺：CF、Array、TP

适用基板尺寸：All Size

适用基板厚度：≥0.3mm

显影类型：Oscilation Type Shower

设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made

工艺能力：

1.High Uniformity Ultra-low Pressure Spray；

2.Excellent Process Reliability，High CD Uniformity；

3.Defoaming Management；

4.No Mist, No Roller Mark, No Contamination And No Scratch；

5.Low Running Cost.

湿法刻蚀机Wet Etcher

将曝光后的光阻溶解于显影液后用去离子水冲洗干净，以定义膜层图形，单张基板需显影5次以上，占面板制程总工序约10%。单张基板需刻蚀3次以上，占面板制程总工序约5%。

湿法蚀刻机

适用工艺：ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu、Rework……

适用基板尺寸：All Size

适用基板厚度：≥0.3mm

刻蚀类型：Multi-angle Oscilation Type Shower / Dip

设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made

工艺能力：

1.Within Glass、Glass To Glass、Lot To Lot；

2.No Mura, No Roller Mark, No Contamination and No Scratch；

3.CD Uniformity；

4.CD Loss；

5.Low Running Cost.

光阻剥离机Stripper

将刻蚀过后的膜层上的光阻剥离，要求去报不能有比刻蚀图案还小的光阻、化学品、水渍残留，相当于在整个北京大兴机场将所有5-10mm豌豆大小的颗粒全部捡干净。单张基板需剥离10次以上，占面板制程总工序约10%。

光阻剥离机

适用工艺：Array，OLED，Rework

适用基板尺寸：All Size

适用基板厚度：≥0.3mm

剥膜类型：Cascade Type Strip Shower

设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made

工艺能力：

1.No PR, Chemical, Water Residue；

2.No Corrosion；

3.ESD Control；

4.No Mura, No Roller Mark, No Contamination And No Scratch；

5.Low Running Cost.

掩模版清洗机Mask Cleaner

蒸镀工序前的每张掩模版都需要通过掩模版清洗机清洗，保证掩模版微米级的图案通道不被污染堵塞，以致蒸镀失败，导致报废。

掩膜版清洗机

清洗质量：无mura、水痕、锈斑、脏污，无损伤

平坦度：百微米级

Total Pitch变化：微米级

Defect数量：10ea

搬送重复精度：毫米级

温度稳定性：±1°（60°以内）

超声波：

4波段复频超声波，频率可自由切换

球面波超声技术，无死角

，时长04:40

DIC EXPO中国（上海）国际显示技术及应用创新展将于2023年8月29-31日在上海新国际博览中心举办，更多前沿技术将在会上展现。

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内容来源：DIC显示界